原装进口美国UVOCS紫外臭氧清洗机T16X16/OES

UVOCS T16X16/OES 为实验室级紫外臭氧表面清洗设备，主要用于清除样品表面微量有机污染物，广泛应用于半导体、薄膜、光学、材料科学、MEMS 以及科研场景。 该紫外臭氧清洗设备可在常温条件下完成干式清洗，依靠紫外光与臭氧分解有机污染物，能够去除微量油脂、焊剂、光刻胶残胶、胶残留、碳污染以及其他有机物质，适合对表面洁净度有较高要求的终清洗与样品前处理工序。

紫外臭氧清洗工艺操作简便、成本适中，可在多数无机基材表面去除有机污染物，获得洁净表面；适用基材包括石英、硅、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等。 该工艺适合需要薄膜在基底上形成良好附着效果的场景。基材经过常规清洗之后，再采用紫外臭氧处理 1 至数分钟，即可得到洁净表面。

紫外臭氧清洗可去除微量的：

• 人体油脂

• 硅油与润滑脂

• 光刻胶残胶

• 凝聚态胶类挥发物

工艺特点

• 获得洁净表面

• 常温工艺

• 处理速度快，多数应用场景耗时小于 10 分钟

• 操作简便

• 设备采购成本适中，运行成本低

型号参数对比表

源自:深圳市湾边贸易有限公司，图文仅供参考。

注:本文章所有涉及到的产品公司名称、商标、LOG0、产品图片、产品说明、产品品牌名称等一切知识产权归对应品牌所有;

在文章仅用于方便产品识别，发布内容如有侵权，请及时联系进行删除。